光刻胶 – 风君雪科技博客

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我国科研团队完成新型光刻胶技术初步验证，性能优于大多数商用光刻胶

九峰山光刻胶半导体华中科技大学芯片

我国科研团队完成新型光刻胶技术初步验证，性能优于大多数商用光刻胶

感谢网友软媒用户1353584 的线索投递！ 4 月 2 日消息，据湖北九峰山实验室消息，作为半导体制造不可或缺的材料，光刻胶质量和性能是影响集成电路电性、成品率及可靠性的关键因素。 ...

风君子
业界
2024-04-02
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南大光电：有两款 ArF 光刻胶已进入批量验证阶段，核心材料为公司自主研发

光刻胶南大光电

南大光电：有两款 ArF 光刻胶已进入批量验证阶段，核心材料为公司自主研发

9 月 11 日消息，南大光电日前发布投资者关系活动记录表，对公司旗下的光刻胶业务及面板材料业务进行了说明，并透露公司旗下已经有两款 ArF 光刻胶进入批量验证阶段。 ...

风君子
业界
2023-09-11
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一张图了解晶圆、光刻等知识：沙子如何演变为高科技芯片

一张图了解晶圆、光刻等知识：沙子如何演变为高科技芯片一张图系列光刻胶快科技晶圆

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Redmi Note 10系列计划5月26日（周三）下午14点发布，卢伟冰自曝还要在发布会上谈谈芯片的那些事儿。 ...

风君子
业界
2021-05-24
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打破日美垄断国产ArF光刻胶取得重大突破：可用于7nm工艺

7nm 光刻胶日本美国

打破日美垄断国产ArF光刻胶取得重大突破：可用于7nm工艺

作为半导体卡脖子的技术之一，很多人只知道光刻机，却不知道光刻胶的重要性，这个市场也是被日本及美国公司垄断，TOP5厂商占了全球85%的份额。 ...

风君子
业界
2020-05-22
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