光刻机（Mask Aligner）是制造微机电、光电、二极体大规模集成电路的重要设备。一台光刻机主要包括了曝光系统和对准系统两个部分。
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- 业界
- 2020-06-21
据媒体报道，上海微电子装备(集团)股份有限公司披露，将在2021-2022年交付第一台28nm工艺的国产的沉浸式光刻机。
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- 业界
- 2020-06-06
IT之家5月19日消息 上海微电子装备（集团）股份有限公司（简称SMEE）主要致力于半导体装备、泛半导体装备、高端智能装备的开发、设计、制造、销售及技术服务。
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- 业界
- 2020-05-19
作者：辣椒客
【TechWeb】7 月 18 日消息，据国外媒体报道，知名半导体设备供应商阿斯麦公司公布的数据显示，其在今年二季度共出货 48 台光刻机，与一季度持平，但不及去年同期。
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- 业界
- 2019-07-18
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